セミナーのご案内 《他社主催セミナー》
半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド【LIVE配信】
2024-12-16
主 催 株式会社R＆D支援センター
日 時 2024年12月16日（月） 13:00～16:00
※本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
聴講料 1名につき 49,500円（税込、資料付き）
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。
講 師 （株）SCREEN セミコンダクターソリューションズ
洗浄要素開発統轄部 洗浄技術開発部 開発戦略課 プロセス戦略リーダー 修士（工学）
吉田 幸史氏 【ご経歴】Imec(ベルギーの半導体研究機関) 駐在歴3年 【ご専門】プロセス
◆受講の詳細や請求書等は、株式会社R＆D支援センターよりご案内します。
◆受講料は、銀行振込にて、原則として開催日までにお支払い下さい。
◆お申し込み後はキャンセルできません。ご都合が悪くなった場合は代理の方がご出席ください。
◆受講対象・レベル
・半導体洗浄関連の業務にたずさわって1~3年の若手技術者や新人～中堅の方
・半導体の洗浄技術に興味のある方
◆必要な予備知識
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
◆習得できる知識
・半導体製造における洗浄の役割を基礎から理解できる
・半導体洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる
・先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる
◆趣旨
半導体製造において、洗浄は品質や歩留まりを向上するために欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から次世代半導体の洗浄課題、最新洗浄技術までを本セミナーで解説します。
まずは、半導体洗浄の装置や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。また洗浄後は、濡れたウェハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があります。乾燥は洗浄とセットとなる重要なプロセスであるため、乾燥工程にフォーカスを当て解説します。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄と乾燥課題に触れていきます。最先端半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由を解説し、最先端の洗浄技術を紹介します。
本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。
◆プログラム
1.なぜ半導体洗浄が必要なのか
1-1.基本的な半導体製造プロセス
1-2.半導体製造おける洗浄の位置づけ
1-3.洗浄対象物
2.どのように半導体洗浄を行うか
2-1.洗浄装置の種類
2-2.洗浄薬液の種類
2-3.洗浄原理
3.洗浄の技術トレンド
3-1.半導体と洗浄の歴史
3-2.従来の洗浄技術
4.乾燥の技術トレンド
4-1.半導体と乾燥の歴史
4-2.従来の乾燥技術
5.次世代半導体の洗浄課題
5-1.半導体デバイスのトレンド
5-2.洗浄の技術的課題
5-3.洗浄装置に求められる機能
6.先端洗浄技術
6-1.最新の洗浄技術
6-2.最新の乾燥技術
6-3.シミュレーション技術
7.まとめ
